中国 デジタル用途向けのタンタル合金 メーカー 工場 サプライヤー

タンタルプレート

半導体およびエレクトロニクス. 防衛. 炉付属品. 化学処理装置. 医学

タンタル酸カリウムニオブ酸塩結晶

ニオブ酸タンタルカリウム結晶には非常に大きな電気光学効果があることが 1950 年代から知られていました。 すなわち、比較的低い印加電圧で屈折率が大きく変化する。 KTN を光学デバイスとして使用するには、入射光が入射しないように単結晶である必要があります。

タンタル単結晶

タンタル単結晶の応用 1. エレクトロニクスおよび半導体: タンタル単結晶は、コンデンサ、半導体、集積回路などの電子部品の製造に使用されます。 優れた電気絶縁性と安定性により、これらの用途に信頼できる材料となります。

タンタルスパッタリングターゲット

タンタル (Ta) は、高成長の半導体産業におけるマイクロチップ アーキテクチャにとって重要な高融点金属です。 高純度タンタル ターゲットは、シリコン ウェーハ上にタンタルの微細な薄層をスパッタリングするために使用され、次世代の半導体ロジックの製造を可能にします。

タンタルキャピラリー

タンタルキャピラリーは、融点が高く、蒸気圧が低く、電気的特性が優れているため、電子機器で重要な役割を果たしています。 電子部品、集積回路接続線、高精度電子管などの製造に使用されます。

タンタルリボン

タンタルワイヤーとタンタルテープは耐食性があり、熱伝導率が優れています。 その用途の一部は、発熱体、真空管、その他の高温部品の製造にあります。

タンタルるつぼ

材質：タンタル（99.95％）. 融点：3017度. 推奨充填率：67～75. 不活性ガス下での使用を推奨します。 空気または酸素が豊富な環境で使用すると、タンタルるつぼが酸化し、るつぼの寿命が短くなります。

タンタルディスク

当社のタンタルディスクは、保管および輸送中の損傷を防ぎ、製品の品質を元の状態に保つために慎重に扱われます。

タンタルバーロッド

タンタルは、融点が高く、硬度が高く、熱膨張率が低いため、エレクトロニクス、航空宇宙、医療機器などの要求の厳しい用途に優れています。

タンタル箔ストリップ

輸送中のタンタル箔への衝突や損傷を避けるために、タンタル箔は通常、パールコットン（発泡ポリエチレン）で包まれ、木箱に梱包されます。 これにより、納品時の製品の完全性が保証されます。

タンタルバー

タンタルは、融点が高く、硬度が高く、熱膨張率が低いため、エレクトロニクス、航空宇宙、医療機器などの要求の厳しい用途に優れています。 GNEE は、品質への取り組みを裏付けとして、比類のない純度と信頼性を備えたタンタル ロッドおよびタンタル バーを提供しています。

ASTM B708​​ タンタル合金プレート

1.グレード: R05200、R05400、R05255、R05252、R05240. 2.プレート、シート、ストリップのサイズ: 150-1000mm x 150-3000mm x 0.13 -10mm