中国 エッジアプリケーション用のタンタル合金 メーカー 工場 サプライヤー

タンタル酸カリウムニオブ酸塩結晶

ニオブ酸タンタルカリウム結晶には非常に大きな電気光学効果があることが 1950 年代から知られていました。 すなわち、比較的低い印加電圧で屈折率が大きく変化する。 KTN を光学デバイスとして使用するには、入射光が入射しないように単結晶である必要があります。

タンタル酸リチウムウエハー

これらのタンタル酸リチウム結晶は純度 99.99% 以上です。 GNEE では、高品質のタンタル酸リチウムのバルク結晶、ウェーハ、基板を見つけることができます。

タンタルスパッタリングターゲット

タンタル (Ta) は、高成長の半導体産業におけるマイクロチップ アーキテクチャにとって重要な高融点金属です。 高純度タンタル ターゲットは、シリコン ウェーハ上にタンタルの微細な薄層をスパッタリングするために使用され、次世代の半導体ロジックの製造を可能にします。

タンタルキャピラリー

タンタルキャピラリーは、融点が高く、蒸気圧が低く、電気的特性が優れているため、電子機器で重要な役割を果たしています。 電子部品、集積回路接続線、高精度電子管などの製造に使用されます。

コンデンサグレードのタンタルワイヤ

コンデンサグレードのタンタル (Ta) ワイヤ仕様:. 直径: 純粋なタンタル. 純度: 99.95%. 直径: 0.2-0.8mm. 規格: ASTM B 365

タンタルるつぼ

材質：タンタル（99.95％）. 融点：3017度. 推奨充填率：67～75. 不活性ガス下での使用を推奨します。 空気または酸素が豊富な環境で使用すると、タンタルるつぼが酸化し、るつぼの寿命が短くなります。

タンタル管パイプ

材質: 純粋なタンタル. UNS番号：R05200、R05400. サイズ: 外径: 1.0~150mm、重量: 0.1~5mm、長さ: 10mm~6000mm. 純度: 99.95% 以上、99.995. 規格: ASTM B521. 状態：ハード、セミハード、マイルド

タンタル金属

タンタルは化学的にはニオブに非常によく似ています。これは、タンタルとニオブは同様の電子配置を持ち、ランタニドの収縮によりタンタル イオンの半径がニオブのイオンの半径とほぼ同じであるためです。 タンタルは通常、化合物中で {{0}} 酸化状態にあります。 より低い酸化状態、特に +2 から +4 が調製されています。 タンタル化合物は商業的には比較的重要ではありませんが、超硬合金 TaC

タンタルプレート

半導体およびエレクトロニクス. 防衛. 炉付属品. 化学処理装置. 医学

タンタルシート

タンタルは高温真空炉でよく使用されます。 多くの場合、シールドや支持構造としてだけでなく、発熱体自体としても使用されます。 材料のサイズと形状に応じて、GNEE は炉内での材料の耐用年数を延ばすために、さまざまなタイプの粒子安定化タンタルを提供できます。

タンタルバー

タンタルは、融点が高く、硬度が高く、熱膨張率が低いため、エレクトロニクス、航空宇宙、医療機器などの要求の厳しい用途に優れています。 GNEE は、品質への取り組みを裏付けとして、比類のない純度と信頼性を備えたタンタル ロッドおよびタンタル バーを提供しています。

ASTM B708​​ タンタル合金プレート

1.グレード: R05200、R05400、R05255、R05252、R05240. 2.プレート、シート、ストリップのサイズ: 150-1000mm x 150-3000mm x 0.13 -10mm