中国 高圧フローアプリケーション用のタンタル合金 メーカー 工場 サプライヤー

タンタルバー

タンタルは、融点が高く、硬度が高く、熱膨張率が低いため、エレクトロニクス、航空宇宙、医療機器などの要求の厳しい用途に優れています。 GNEE は、品質への取り組みを裏付けとして、比類のない純度と信頼性を備えたタンタル ロッドおよびタンタル バーを提供しています。

タンタル酸カリウムニオブ酸塩結晶

ニオブ酸タンタルカリウム結晶には非常に大きな電気光学効果があることが 1950 年代から知られていました。 すなわち、比較的低い印加電圧で屈折率が大きく変化する。 KTN を光学デバイスとして使用するには、入射光が入射しないように単結晶である必要があります。

タンタル酸カリウム結晶基板

タンタル酸カリウム、KTaO3 基板、KTaO3 単結晶は、ペロブスカイト構造とパイロクロアを有する新しい結晶であり、超電導薄膜用途で幅広い市場の可能性を持っています。 KTaO3 結晶は絶対零度から融点 (1645K) まで相変化がなく、...

タンタルスパッタリングターゲット

タンタル (Ta) は、高成長の半導体産業におけるマイクロチップ アーキテクチャにとって重要な高融点金属です。 高純度タンタル ターゲットは、シリコン ウェーハ上にタンタルの微細な薄層をスパッタリングするために使用され、次世代の半導体ロジックの製造を可能にします。

タンタルの塊

GNEE は、化学蒸着 (CVD) および物理蒸着 (PVD) プロセスで使用するために、可能な限り高い密度と可能な限り小さい平均粒径を備えた高純度タンタル ブリケットの製造を専門としています。 当社の標準ナゲットは、サイズ範囲が 5-15 mm の非晶質で均質なナゲットです。 ブロックは、結晶化、固体状態、および昇華などのその他の超高純度プロセスによって生成されます。

コンデンサグレードのタンタルワイヤ

コンデンサグレードのタンタル (Ta) ワイヤ仕様:. 直径: 純粋なタンタル. 純度: 99.95%. 直径: 0.2-0.8mm. 規格: ASTM B 365

タンタルディスク

当社のタンタルディスクは、保管および輸送中の損傷を防ぎ、製品の品質を元の状態に保つために慎重に扱われます。

タンタル箔ストリップ

輸送中のタンタル箔への衝突や損傷を避けるために、タンタル箔は通常、パールコットン（発泡ポリエチレン）で包まれ、木箱に梱包されます。 これにより、納品時の製品の完全性が保証されます。

タンタルワイヤー

純金属は、エレクトロニクス産業でさまざまな種類の電子デバイス (整流器、コンデンサ、フィラメントなど) を製造するために使用されます。 タンタルは残留ガスの吸収性が高いため、真空システムでも使用されます。 また、良好な耐食性、強度、延性を備えた合金を製造するために、ニッケルやモリブデンなどと組み合わせて合金元素としても使用されます。

タンタル金属

タンタルは化学的にはニオブに非常によく似ています。これは、タンタルとニオブは同様の電子配置を持ち、ランタニドの収縮によりタンタル イオンの半径がニオブのイオンの半径とほぼ同じであるためです。 タンタルは通常、化合物中で {{0}} 酸化状態にあります。 より低い酸化状態、特に +2 から +4 が調製されています。 タンタル化合物は商業的には比較的重要ではありませんが、超硬合金 TaC

タンタルシート

タンタルは高温真空炉でよく使用されます。 多くの場合、シールドや支持構造としてだけでなく、発熱体自体としても使用されます。 材料のサイズと形状に応じて、GNEE は炉内での材料の耐用年数を延ばすために、さまざまなタイプの粒子安定化タンタルを提供できます。

ASTM B708​​ タンタル合金プレート

1.グレード: R05200、R05400、R05255、R05252、R05240. 2.プレート、シート、ストリップのサイズ: 150-1000mm x 150-3000mm x 0.13 -10mm