中国 圧力アプリケーションを増加させるためのタンタル合金 メーカー 工場 サプライヤー

タンタルの塊

GNEE は、化学蒸着 (CVD) および物理蒸着 (PVD) プロセスで使用するために、可能な限り高い密度と可能な限り小さい平均粒径を備えた高純度タンタル ブリケットの製造を専門としています。 当社の標準ナゲットは、サイズ範囲が 5-15 mm の非晶質で均質なナゲットです。 ブロックは、結晶化、固体状態、および昇華などのその他の超高純度プロセスによって生成されます。

タンタル酸リチウムウエハー

これらのタンタル酸リチウム結晶は純度 99.99% 以上です。 GNEE では、高品質のタンタル酸リチウムのバルク結晶、ウェーハ、基板を見つけることができます。

タンタルスパッタリングターゲット

タンタル (Ta) は、高成長の半導体産業におけるマイクロチップ アーキテクチャにとって重要な高融点金属です。 高純度タンタル ターゲットは、シリコン ウェーハ上にタンタルの微細な薄層をスパッタリングするために使用され、次世代の半導体ロジックの製造を可能にします。

タンタルキャピラリー

タンタルキャピラリーは、融点が高く、蒸気圧が低く、電気的特性が優れているため、電子機器で重要な役割を果たしています。 電子部品、集積回路接続線、高精度電子管などの製造に使用されます。

タンタルリボン

タンタルワイヤーとタンタルテープは耐食性があり、熱伝導率が優れています。 その用途の一部は、発熱体、真空管、その他の高温部品の製造にあります。

タンタルディスク

当社のタンタルディスクは、保管および輸送中の損傷を防ぎ、製品の品質を元の状態に保つために慎重に扱われます。

タンタル管パイプ

材質: 純粋なタンタル. UNS番号：R05200、R05400. サイズ: 外径: 1.0~150mm、重量: 0.1~5mm、長さ: 10mm~6000mm. 純度: 99.95% 以上、99.995. 規格: ASTM B521. 状態：ハード、セミハード、マイルド

タンタル箔

タンタル箔およびタンタルテープは次の用途に使用できます。. - 実験装置に使用されます。. ・プラチナの代替品として使用されます。. - 高温合金の製造や電子ビーム溶解に使用されます。. - 冶金、機械加工、ガラス、セラミックに使用されます。

タンタル金属

タンタルは化学的にはニオブに非常によく似ています。これは、タンタルとニオブは同様の電子配置を持ち、ランタニドの収縮によりタンタル イオンの半径がニオブのイオンの半径とほぼ同じであるためです。 タンタルは通常、化合物中で {{0}} 酸化状態にあります。 より低い酸化状態、特に +2 から +4 が調製されています。 タンタル化合物は商業的には比較的重要ではありませんが、超硬合金 TaC

タンタルプレート

半導体およびエレクトロニクス. 防衛. 炉付属品. 化学処理装置. 医学

タンタルシート

タンタルは高温真空炉でよく使用されます。 多くの場合、シールドや支持構造としてだけでなく、発熱体自体としても使用されます。 材料のサイズと形状に応じて、GNEE は炉内での材料の耐用年数を延ばすために、さまざまなタイプの粒子安定化タンタルを提供できます。

ASTM B708​​ タンタル合金プレート

1.グレード: R05200、R05400、R05255、R05252、R05240. 2.プレート、シート、ストリップのサイズ: 150-1000mm x 150-3000mm x 0.13 -10mm