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1.グレード: R05200、R05400、R05255、R05252、R05240. 2.プレート、シート、ストリップのサイズ: 150-1000mm x 150-3000mm x 0.13 -10mm
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ニオブ酸タンタルカリウム結晶には非常に大きな電気光学効果があることが 1950 年代から知られていました。 すなわち、比較的低い印加電圧で屈折率が大きく変化する。 KTN を光学デバイスとして使用するには、入射光が入射しないように単結晶である必要があります。
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タンタル単結晶の応用 1. エレクトロニクスおよび半導体: タンタル単結晶は、コンデンサ、半導体、集積回路などの電子部品の製造に使用されます。 優れた電気絶縁性と安定性により、これらの用途に信頼できる材料となります。
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これらのタンタル酸リチウム結晶は純度 99.99% 以上です。 GNEE では、高品質のタンタル酸リチウムのバルク結晶、ウェーハ、基板を見つけることができます。
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材質:タンタル(99.95%). 融点:3017度. 推奨充填率:67~75. 不活性ガス下での使用を推奨します。 空気または酸素が豊富な環境で使用すると、タンタルるつぼが酸化し、るつぼの寿命が短くなります。
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輸送中のタンタル箔への衝突や損傷を避けるために、タンタル箔は通常、パールコットン(発泡ポリエチレン)で包まれ、木箱に梱包されます。 これにより、納品時の製品の完全性が保証されます。
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純金属は、エレクトロニクス産業でさまざまな種類の電子デバイス (整流器、コンデンサ、フィラメントなど) を製造するために使用されます。 タンタルは残留ガスの吸収性が高いため、真空システムでも使用されます。 また、良好な耐食性、強度、延性を備えた合金を製造するために、ニッケルやモリブデンなどと組み合わせて合金元素としても使用されます。
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タンタルは高温真空炉でよく使用されます。 多くの場合、シールドや支持構造としてだけでなく、発熱体自体としても使用されます。 材料のサイズと形状に応じて、GNEE は炉内での材料の耐用年数を延ばすために、さまざまなタイプの粒子安定化タンタルを提供できます。
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タンタルは、融点が高く、硬度が高く、熱膨張率が低いため、エレクトロニクス、航空宇宙、医療機器などの要求の厳しい用途に優れています。 GNEE は、品質への取り組みを裏付けとして、比類のない純度と信頼性を備えたタンタル ロッドおよびタンタル バーを提供しています。
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何年も免除されていない努力の後、会社は重要な立場としての地位を確立しました 持続可能な開発のためのチタンプレート, カビ用のチタンプレート, 非対称アプリケーション用のタンタル合金 業界。 主要な人の一人としてラフプレッシャーフローアプリケーション用のタンタル合金中国のメーカーとサプライヤー、私たちはあなたを高級品を購入することを温かく歓迎しますラフプレッシャーフローアプリケーション用のタンタル合金私たちの工場からここで販売されています。すべてのカスタマイズされた製品は、高品質で競争力のある価格です。












