金属材料タンタルの応用

タンタルターゲット材料は通常ベアターゲットと呼ばれ、まず銅のバッキングターゲットと溶接され、次に半導体または光スパッタリングでタンタル原子が酸化物形成により基板材料上に堆積され、スパッタリングコーティングが実現されます。 現在、半導体業界ではターゲット材料として物理蒸着（PVD）コーティングやバリア層の形成による金属タンタル（Ta）が主に使用されています。 ご存知のとおり、タンタル金属の性能は比較的安定していますが、タンタル金属粉末の粒径が細かいほど活性が高く、室温で酸素、窒素などと反応するため、酸素、窒素、その他の不純物が除去されます。タンタル粉末の含有量が増加します。 高品質のタンタルターゲットを得るためには、まずタンタル粉末中の不純物含有量を低減し、タンタル粉末の純度を向上させる必要があります。 タンタル粉末およびタンタルターゲットの品質を向上させるには、タンタル粉末の粒径を小さくすることが必要です。 タンタルターゲットは、主に半導体コーティング、光学コーティング、装飾、フラットパネルディスプレイ、機能性コーティング、その他の光情報記憶空間産業、自動車ガラスや建築用ガラスなどのガラスコーティング産業、光通信で使用されます。 半導体では、物理蒸着 (PVD) プロセスを使用してタンタル スパッタリング ターゲットを半導体基板上に「スパッタリング」し、薄膜拡散バリアを形成して銅の相互接続を保護します。 タンタル スパッタリング ターゲットは、磁気記憶媒体、インクジェット プリンタ ヘッド、フラット パネル ディスプレイなど、他のさまざまな製品にも使用されています。 エンジン タービン ブレードは融点が高く、耐食性があるため、合金用途に最適です。 タンタルはニッケルベースの高温合金に使用され、主な用途は航空機エンジンや陸上ガスタービンのタービンブレードです。 化学処理装置は非常に高い耐食性と高温耐性を備えているため、この金属は化学および製薬産業の容器、パイプ、バルブ、熱交換器のライニングに理想的な建築材料となっています。